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抛光粉的种类及抛光效果分析

浏览:811 发表时间:2018-05-07 11:33:33 来源:网络

一.抛光粉的总类:
抛光粉通常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化硅为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。
二.对抛光粉的基本要求:
(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;
(2)有较高的纯度,不含机械杂质;
(3)有良好的分散性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加分散剂提高悬浮率;
(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的棱角,以提高抛光效率;
(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合
粒度越大的抛光粉,磨削力越大,越适合于较硬的材料,要注意的是,所
有的抛光粉的颗粒度都有一个分布问题,平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢,而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此,要得到高精度要求,必须控制抛光粉的最大颗粒。普通抛光粉之所以存在划伤,就是有大颗粒的原因。所以一般选择粒径分布范围窄的纳米抛光粉(VK-L300F)。
  抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时,浆料浓度因适当调低以得到合适的流动性,一般建议在7-10%
三.抛光模的选择
抛光模应该用软一点的。应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。一般最好使用不加抛光粉的抛光模。
四.影响抛光粉性能的指标
1、粉体的粒度大小:颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度,过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。
2、粉体莫氏硬度:硬度相对大的粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。
3、粉体悬浮性:好的抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,纳米粒径的抛光粉的悬浮性相对的要好一些,所以精抛一般选择纳米抛光粉。
4、粉体的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,颗粒为球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流动性。
五.抛光范围细分:
作为精细抛光材料,目前市场上用量最大的几类抛光粉主要是氧化铝抛光粉,氧化铈抛光粉,氧化硅抛光粉等。
1.氧化铝抛光粉:
氧化铝抛光粉(VK-L300F)一般用于大理石石材抛光,金属铝材抛光,金属不锈钢抛光,金相(亚克力板)抛光,PCB印制电路板抛光,油漆抛光,树脂抛光,玉石抛光,颗粒大小根据要求一般分布在0.2-0.5um之间。
   2. 二氧化硅抛光粉:
一般用于人工晶体,宝石抛光,或者金属制品精抛后修复其少量的瑕疵。其粒径一般分布在0.3-1um
   3. 氧化铈抛光粉或者抛光液(VK-Ce02W):
用于镜头、电视显像管、眼镜片、晶圆,光学元件、光纤、艺术玻璃、电子玻璃、平板玻璃等的抛光。一次粒径一般要求在20-30nm,二次粒径一般要求0.2um。

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